某半导体器件基带芯片研发厂在晶圆粗加工时中，便用硅烷使用硅外延性发育，氮氧化合物清洗塔形成高含磷量含硅工业废污水。工业废污水兼有pH起伏较大大（2-11）、硅含磷量高的亮点，传统性补救形式易突然出现硅垢闭塞大问题。 废污水物质及來源 废渣主要是组分为： 可溶性高，溶于水的性硅酸盐 ：SiO₂氨水浓度达1000-1500mg/L 盐酸/氢氧化物钠 ：干洗塔碱酸干洗液留下 颗粒肥料硅 ：奈米级SiO₂固体 痕量砷 ：奶茶原料杂质残渣融入 清理工艺设计工艺设计 自主创新所采用"多级与+膜脱水+化掉晶粒"工艺设计： 一层中合 ：用CaO调节器pH至4-5，转为硅酸钙沉淀出的，硅剔除率60%。 特殊结合 ：加Na₂CO₃将pH提高了至9，进一次沉垫乘余硅，串并联用镁剂除砷。 反渗透装置设备 ：0.02μm陶瓷图片膜过滤系统nm级硅粒状，通量稳定性高在80LMH。 MVR挥发器 ：浓缩提炼高盐生产废水，晶粒出Na₂SO₄副商品，水造纸废水处理率超90%。 最中作用 总硅从1500mg/L降到5mg/L以內 砷份量从0.8mg/L降低0.01mg/L 装置无积灰运动超2年 几乎每年收旧氢氧化钾钠氯化钠晶体约800吨